原来在80年代，我国光刻机技术出现了一次“滑铁卢”，不知道是科研资金不够还是“飘了”，我国科研人员甚至一度放弃了光刻机的研究，并且倡导从国外进口。可能当时的人没能考虑到进口的弊端，于是自研光刻机的事就一直被搁置了起来，就连前面20年的研究成果，也都付诸东流了。

也许是中国半导体行业的不景气，就连最后坚守在光刻机行业的武汉三厂最终也选择了转行，并卖起了零食，后来，直到台湾台积电公司开发出了193nm光刻机，国人才终于顿悟，直至今日，我国光刻机还是依靠进口。

通过对田中信一的询问，目前东芝电子厂已经可以生产4~5英寸圆晶，0.9微米级别的芯片。

听到田中的介绍，段云内心有些暗暗吃惊。

其实早在来日本之前，段云对国内目前的芯片产业技术情况已经有了比较全面的了解。

1986年，电子工业部在厦门召开集成电路发展战略研讨会，提出“七五”（1986—1990年）期间我国集成电路技术的“531”发展战略，即普及推广以742厂为基点的5微米技术，同时开发3微米技术，攻关1微米技术。

但实际上，一直到1993年的时候，国内才开发出 5英寸，三微米技术，而这比起日本，已经整整相差了15年以上。

“这套设备我要了。”段云走到一台光刻机前，对田中信一说道。“段云先生……”田中闻言先是愣了一下，随即笑着对段云说道：“这是目前我们公司最先进的光刻机，全日本也只有6台，这个是不可能卖给你们的……另外你们生产的这种闪存芯片也用不着精密度这么高的光刻机。”

“那贵公司打算卖给我们哪一台光刻机？”段云问道。

段云其实早就知道东芝公司不可能把最先进的东西卖给自己，而且就算他卖，日本政府也不会同意。

一直以来日本政府对于芯片产业扶持力度都非常大，不光税收方面有优惠，东芝芯片产业的税率只有百分之20，远远低于美国公司45%~50%的税率，另外日本政府一直鼓励国内顶级高校的大学生从事芯片产业技术研究，并且设立了相关专业的高额奖学金，也正是因为以上种种举措，才使得日本的芯片产业力压美国，成为全球第一。

顶尖的光刻机是绝对不可能卖给中国的，除了日本政府的严格监督，还有就是受限于巴统协议，所以从一开始，东芝在中国办厂所用的设备注定不是最先进的。 本章未完，请点击下一页继续阅读！ 第2页/共3页