A**L公司作为目前世界上市场占有率最高的光刻机生产厂家，它的前身是荷兰电子巨头飞利浦的光刻设备研发部门。

曾在1973年成功研发出了新型光刻设备（PAS2000的原型），在整体性能研发方面取得一定成功，但由于成本高昂，且存在一系列技术问题，未能最终推出。

同时，由于其他设备商在解决接触式光刻机的缺陷问题上用不同的技术路径取得了突破，飞利浦一度计划要关停光刻设备研发部门。

不过，随后另一家半导体设备厂商A**I希望与飞利浦合作开发生产光刻机，于是在1984年，双方分别出资约210万美元成立了A**L公司。

在当时的光刻机市场，A**L公司也还只是一个无名小卒。

当时市场主要被美国GCA和日本的尼康所占据，二者分别占据了约30%的市场，Ultratech占比约10%，剩下的市场则被Eaton、PE、佳能、日立等厂商瓜分，不过他们的份额均不到5%。

1990年左右，A**L公司推出PAS5500系列光刻机，这一设计超前的8英寸光刻机，其采用了模块化设计的光刻系统，可以在同一平台上生产多代先进IC。

PAS5500不仅为A**L公司带来台积电、三星和现代等关键客户，凭借PAS5500的优势持续获得客户的认可，也为A**L公司带来了市占率的持续提升和丰厚的盈利。到1994年时，A**L公司在全球光刻机市场的市占率已经提升至18%。

一切的转折点，始于A**L公司在浸没式光刻技术上的成功，这让它一举击败尼康等头部光刻机厂商，成为全球光刻机市场的龙头老大。

在2000年之前，光刻设备中一直采用的是干式光刻技术，直到2002年，时任台积电研发副总的林本坚博士提出了浸没式光刻机的设想，这一方案若能够成功，便能够解决光刻机光源波长迟迟无法越过193nm的业界难题。

为此，林本坚找了许多半导体巨头，希望能够合作，其中便有当时光刻机最大的厂商——尼康。

但是，尼康拒绝了他，毕竟当时正是各个光刻机厂家竞争的关键时刻，尼康不敢去尝试新方案，新方案一旦失败，便会让尼康错过发展良机从而被美国公司超越。

最终，A**L公司选择与台积电合作，从而成功的研发出了新型的光刻机。

得益于193nm浸没式光刻机系统在市场大获成功，成为全球领先光刻机厂商之后，A**L公司很快又投入了全新的EUV光刻机的研发。

在2010年，A**L公司首次发售概念性的EUV光刻系统NXW:3100，从而开启EUV光刻系统的新时代。 本章未完，请点击下一页继续阅读！ 第1页/共2页